Ledia 6

Ledia 6

先进的技术开拓未来

UV-LED多波长曝光

光源采用节能、长寿命、采用更环保的LED光源。使用SCREEN独有高效合成多个波长的技术。从感光胶顶部到底部均匀照射能量。无论是油墨、高感度干膜、还是传统接触曝光设备和投影曝光设备中使用的普通干膜,本设备为所有类型的光敏材料提供高水平DI曝光品质。

各种阻焊剂的最佳曝光

通过配备高功率合成光3波长UV-LED光源。 根据各种类型阻焊膜,调整光功率各波长的合成条件。 能控制侧蚀形状,获得极佳的曝光品质。

高速对位扫描

对位扫描功能无需暂停工作台面运行,对复数靶标不停顿的读取扫描。与传统的步进式对位方式相比,即使是高密度靶标基板也能在更短的时间内读取对位靶标,提高生产效率和精确度。

产品规格

UV-LED多波长曝光

光源采用节能、长寿命、采用更环保的LED光源。使用SCREEN独有高效合成多个波长的技术。从感光胶顶部到底部均匀照射能量。无论是油墨、高感度干膜、还是传统接触曝光设备和投影曝光设备中使用的普通干膜,本设备为所有类型的光敏材料提供高水平DI曝光品质。


各种阻焊剂的最佳曝光

 

通过配备高功率合成光3波长UV-LED光源。

根据各种类型阻焊膜,调整光功率各波长的合成条件。

能控制侧蚀形状,获得极佳的曝光品质。

 

高速对位扫描

 

对位扫描功能无需暂停工作台面运行,对复数靶标不停顿的读取扫描。与传统的步进式对位方式相比,即使是高密度靶标基板也能在更短的时间内读取对位靶标,提高生产效率和精确度。

 

 

大功率曝光机"Ledia 6H"

优化了Ledia的光源单元并使其具有高功率的" Ledia 6H"。
与目前的普通电源光源相比,我们的生产率提高了25%。
*取决于所用感光材料的类型和处理条件。

最大25%の生産性向上 Maximum improvement 25%

各种阻焊剂的最佳曝光

配备强大的宽带3波长UV-LED光源。
无论使用哪种类型,都可以获得最佳的曝光结果,
不仅用于DI的高敏抗蚀剂,而且还用于通用干膜抗蚀剂和阻焊剂。

レジスト種を選ばず最適な露光

最高水平的成像质量

Ledia 6 / 6H具有高分辨率。
我们在包装板和模块板等高清晰度和高附加值领域提供极高的成像质量

 

Model

LI-6S-M LI-6S-P LI-6S-S LI-6S-L

光源

UV-LED

UV-LED

UV-LED

UV-LED

最大

基板

尺寸

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

648(W)×813(L)mm

最小

线宽

(L/S)

30μm

30μm

30μm

30μm

设备

尺寸

1,830(W)

2,585(D)

2,085(H)

mm

3,200(W)

2,900(D)

2,085(H)

mm

3,200(W)

2,900(D)

2,085(H)

mm

1,830(W)

2,935(D)

2,085(H)

mm

重量

2,500kg

3,800kg

3,800kg

2,800kg